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頁 |
| 第1章 洗浄プロセスの技術動向と課題 |
1 |
| 1.1 汚れの分類と洗浄方法 |
1 |
| 1.2 洗浄技術動向と課題 |
2 |
| 引用文献 |
4 |
第2章 半導体 |
5 |
| 2.1 半導体洗浄技術の動向 |
5 |
| 2.1.1 枚葉式洗浄の進展 |
6 |
| (1) UCT(東北大学) |
9 |
| (2) 短時間処理枚葉洗浄法(トレセンティテクノロジー(株)) |
9 |
| (3) SCROD洗浄法(ソニー(株)) |
9 |
| (4) オゾンガス利用枚葉洗浄装置(東京エレクトロン(株)) |
10 |
| (5) 枚葉洗浄用ノズル(大日本スクリーン製造(株)) |
11 |
| (6) 枚葉式裏面、ベベル洗浄装置(日本エスイーゼット(株)) |
11 |
| (7) 薄型ウェハ対応裏面洗浄システム(米Semitool) |
14 |
| (8) アッシング不要のレジスト除去装置(日本エスイーゼット(株)) |
14 |
| (9) 枚葉処理用洗浄剤(EKCテクノロジー(株)) |
15 |
(10) アッシング一体化枚葉式洗浄装置(大日本スクリーン製造(株)、
キヤノン(株)) |
16 |
| (11) キレート剤・界面活性剤添加枚葉洗浄技術(三菱化学(株)) |
19 |
| (12) 完全密閉型枚葉洗浄装置(リアライズアドバンストテクノロジ(株)) |
19 |
| (13) 枚葉式超音波洗浄装置((株)カイジョー) |
26 |
| (14) エキシマレーザ、オゾン水技術応用枚葉式洗浄装置(エス・イー・エス(株)) |
27 |
| (15) 乾燥複合枚葉高速洗浄装置(エス・イー・エス(株)) |
27 |
| (16) 枚葉処理用乾燥装置(日本エスイーゼット(株)) |
27 |
| 2.1.2 バッチ式洗浄装置のワンバス化 |
28 |
| (1) 独立モジュール式バッチ式洗浄装置(大日本スクリーン製造(株)) |
28 |
| (2) マルチノズル式ワンバス洗浄装置(東京エレクトロン(株)) |
28 |
| (3) 乾燥機融合型ワンバス洗浄装置(エス・イー・エス(株)) |
28 |
| 2.1.3 薬液を使用しない洗浄への取り組み |
28 |
| 2.2 半導体洗浄技術の課題 |
29 |
| 2.2.1 微細化への対応 |
30 |
| 2.2.1.1 回路幅狭小化対策 |
33 |
| 2.2.1.2 高アスペクト比対策 |
36 |
| 2.2.2 新材料への対応 |
38 |
| 2.2.2.1 low-k材料への対応 |
39 |
| (1) コンタミネーションコントロールのための選択洗浄(日本電気(株)) |
40 |
| (2) 新材料対応薬液湿式洗浄技術(三菱化学(株)) |
44 |
| 2.2.2.2 high-k材料への対応 |
52 |
| (1) high-kメタルゲート洗浄技術(米Sematech) |
53 |
| (2) high-kプロセス前後用洗浄装置((株)つくばセミテクノロジー) |
59 |
| 2.2.2.3 加工方法の変更により導入される新材料への対応 |
59 |
| 2.2.3 大口径化への対応 |
59 |
| 2.3 洗浄対象汚れと洗浄方法 |
60 |
| 2.3.1 微粒子汚染 |
60 |
| (1) フッ素系洗浄剤使用パーティクル除去用洗浄装置(新オオツカ(株)) |
61 |
| (2) 微粒子対策用物理的洗浄法((株)東芝セミコンダクター) |
64 |
| (3) KrFエキシマーレーザによる微粒子除去技術(富士通(株)) |
64 |
| (4) 洗浄乾燥一体型ユニットシステム(大日本スクリーン製造(株)) |
65 |
| (5) 微小パーティクル抑制型洗浄乾燥装置(東京エレクトロン(株)) |
65 |
| 2.3.2 金属および金属酸化物汚染 |
66 |
(1) 次世代半導体デバイスにおける重金属汚染の影響
((株)東芝セミコンダクター) |
67 |
| (2) UV/Cl2乾式洗浄法による金属汚染除去技術(富士通(株)) |
72 |
| (3) 有機酸蒸気を用いた銅表面酸化物の乾式洗浄(富士通(株)) |
73 |
| (4) 枚葉式王水洗浄技術(異種金属汚染制御技術)(日本エスイーゼット(株)) |
75 |
| 2.3.3 有機物汚染 |
76 |
| 2.4 各種半導体洗浄技術 |
76 |
| 2.4.1 湿式洗浄 |
76 |
| 2.4.1.1 超音波洗浄 |
77 |
| (1) 低ダメージ高強力超音波洗浄機((株)カイジョー) |
77 |
| (2) 均一照射メガソニック洗浄装置(米FSI
International) |
78 |
| (3) 面状照射超音波洗浄装置(米Akrion) |
79 |
| (4) 低出力メガソニック洗浄装置(米Semitool) |
79 |
| (5) 高周波ソフトメガソニック洗浄装置(大日本スクリーン製造(株)) |
79 |
| (6) 300mm対応バッチ式超音波洗浄装置((株)カイジョー) |
79 |
| (7) 節水型超音波ノズル(アルプス電気(株)) |
80 |
| (8) スプレー統合メガソニック洗浄装置(米Akrion/丸紅(株)) |
81 |
| (9) 高速超音波洗浄システム(ジャパン・フィールド(株)) |
82 |
| (10) 枚葉式超音波洗浄装置(米SCP
Global Technology) |
83 |
| (11) FOUP超音波洗浄装置((株)カイジョー) |
83 |
| 2.4.1.2 ジェット洗浄、スプレー洗浄、剪断流洗浄 |
84 |
| (1) 半導体製造プロセスへの超高圧マイクロジェットの応用(旭サナック(株)) |
84 |
| (2) 枚葉式の特徴をもつバッチ式スプレー洗浄システム(エム・エフエスアイ(株)) |
85 |
| (3) 微粒子除去用2流体ジェット洗浄装置(島田理化工業(株)) |
89 |
| (4) 2流体ジェットによる物理洗浄(日本エスイーゼット(株)) |
91 |
| (5) 超純水高速剪断流洗浄法の開発(Si基板表面の洗浄)(大阪大学) |
91 |
| A Cu汚染の洗浄 |
92 |
| B DOP汚染の洗浄 |
104 |
| (6) 気中キャビテーション噴流(東北大学) |
110 |
(7) キャビテーション噴流利用洗浄装置(八代工業高等専門学校、
(財)くまもとテクノ産業財団、熊本電波工業高等専門学校) |
114 |
| (8) ポリッシングパッドの高圧マイクロジェット洗浄(旭サナック(株)) |
124 |
| 2.4.1.3 超臨界流体洗浄法 |
131 |
(1) Co-Solvent超臨界レジスト除去システム(米ロスアラモス国立研究所、
米ヒューレットパッカード) |
134 |
| (2) 300mm対応超臨界洗浄装置(エスペック(株)、(株)つくばセミテクノロジー) |
134 |
| (3) 次世代半導体用超臨界CO2洗浄装置(丸紅(株)/米SC
Fluids) |
135 |
| (4) 高速回転超臨界CO2洗浄装置(神鋼パンテック(株)) |
138 |
| 2.4.2 乾式洗浄 |
141 |
| 2.4.2.1 UV洗浄法 |
142 |
| 2.4.2.2 近可視光法(米UV Tech
Systems) |
144 |
| 2.4.2.3 プラズマ洗浄法 |
144 |
| (1) プラズマによるレジスト剥離 |
145 |
(2) リアルタイムモニタリングによるリモートプラズマ洗浄の最適化
(独Infineon
Technologies、米Air Products Inc.) |
146 |
| 2.4.2.4 レーザ洗浄法 |
152 |
| 2.4.2.5 化学気相洗浄法(スパッタリング法) |
152 |
| 2.4.2.6 ブラスト法(エアロゾル洗浄法) |
152 |
| (1) 極低温エアロゾル洗浄装置(エム・エフエスアイ(株)) |
153 |
(2) 枚葉式極低温エアロゾルプロセス
(米FSI
International、仏Altis Semiconductor) |
160 |
| (3) ドライアイス洗浄(ジャパン・エア・ガシズ(株)) |
163 |
| 2.4.2.7 HFベーパ洗浄法 |
164 |
| 2.4.2.8 局所クリーニング法(ピンポイント・クリーニング) |
165 |
| 2.5 製造工程別洗浄技術 |
166 |
| 2.5.1 フォトマスク製造プロセス |
166 |
| (1) 直接伝播方式超音波洗浄装置((株)サワーコーポレーション) |
166 |
| (2) ヘイズ対策マスク枚葉洗浄装置(シグマメルテック(株)) |
169 |
| 2.5.2 CMPプロセス |
171 |
(1) ダマシンモジュールウェット研磨めっきプロセス
((株)荏原製作所、大阪大学) |
172 |
| (2) CMP一体化枚葉式洗浄装置(芝浦メカトロニクス(株)) |
175 |
| (3) CMP後洗浄用枚葉式メガソニック洗浄装置((株)カイジョー) |
178 |
| (4) CMP後のバッチ式洗浄方法(米Akrion) |
181 |
| (5) オゾン水シャワー型枚葉スピン両面洗浄システム(エム・エフエスアイ(株)) |
181 |
| 2.5.3 実装プロセス |
182 |
| (1) 水平搬送式超音波洗浄機((株)石井表記) |
182 |
| (2) 鉛フリーはんだフラックス用洗浄装置(化研テック(株)) |
183 |
| (3) 実装工程におけるプラズマ洗浄技術((株)日立ハイテクインスツルメンツ) |
190 |
| (4) バンプ印刷用マスタ洗浄機((株)サワーコーポレーション) |
196 |
| (5) メモリー用バッチ式高速洗浄装置(エス・イー・エス(株)) |
198 |
| (6) 大気圧プラズマによるプリント配線基板洗浄プロセス(積水化学工業(株)) |
198 |
| 2.6 乾燥技術 |
203 |
| 2.6.1 スピン乾燥 |
203 |
| 2.6.2 1PA乾燥 |
203 |
| (1) ウォーターマークレスIPA蒸気乾燥装置(東京エレクトロン(株)) |
204 |
| (2) ガス噴射式高速乾燥装置(エス・イー・エス(株)) |
204 |
| (3) ウォーターマークレスIPA引上げ乾燥装置(米Semitool) |
205 |
| 2.6.3 ウォータマークの生成と対策 |
205 |
| 2.6.3.1 生成メカニズム |
205 |
| 2.6.3.2 ウォータマークの抑制法 |
206 |
| 引用文献 |
206 |
第3章 FPD |
217 |
| 3.1 LCD、PDP |
217 |
| 3.1.1 技術動向と課題 |
217 |
| 3.1.2 LCD、PDP洗浄技術 |
218 |
| 3.1.2.1 搬送技術および総合的洗浄システム |
219 |
| (1) 大型基板対応洗浄装置(大日本スクリーン製造(株)) |
219 |
| (2) 大型基板非接触縦型搬送洗浄装置(第一施設工業(株)) |
222 |
| (3) 大型基板用縦型搬送洗浄装置(芝浦メカトロニクス(株)) |
228 |
| (4) Iターン方式省スペース大型基板洗浄システム(芝浦メカトロニクス(株)) |
229 |
| 3.1.2.2 ジェット洗浄 |
232 |
| (1) 超高圧マイクロジェットによる精密洗浄技術(旭サナック(株)) |
232 |
| (2) ガラス基板用節水型超音波シャワー式洗浄装置((株)カイジョー) |
239 |
| (3) 気液2流体高速噴射ノズル洗浄システム(ソシオ(株)) |
244 |
| 3.1.2.3 超音波洗浄 |
245 |
| (1) 節水型高性能超音波ノズル(アルプス電気(株)) |
245 |
| (2) 管理機能強化高性能超音波洗浄装置((株)カイジョー) |
248 |
| (3) 大型ガラス基板の超音波洗浄装置((株)スター・クラスター) |
250 |
| (4) 9m幅大型ライン対応超音波洗浄装置((株)伸興) |
253 |
| (5) 超音波エア式両面同時洗浄装置((株)ヒューグルエレクトロニクス) |
253 |
| 3.1.2.4 UV洗浄 |
255 |
| (1) FPD洗浄用UVランプ(ハリソン東芝ライティング(株)) |
255 |
| (2) LCD大型基板洗浄用UVランプ(岩崎電気(株)) |
260 |
| (3) エキシマレーザアブレーションによる異物除去技術(香川大学) |
261 |
| 3.1.2.5 物理化学的洗浄 |
266 |
(1) 高濃度オゾンを用いたLCD製造用レジスト剥離装置
(三菱電機(株)、島田理化工業(株)) |
266 |
(2) 炭酸エチレンによるFPD用レジスト剥離技術
(野村マイクロ・サイエンス(株)) |
271 |
| (3) ドライアイスパウダー洗浄(オーテックス(株)) |
274 |
| (4) 大気圧プラズマによるLCD材料洗浄プロセス(積水化学工業(株)) |
277 |
| 3.1.2.6 乾燥技術 |
278 |
| (1) 超乾燥エアを用いた基板乾燥装置(協和化工(株)) |
279 |
| (2) エアナイフ式乾燥装置(大日本スクリーン製造(株)) |
280 |
| 3.2 有機EL |
281 |
| (1) 有機EL基板の平坦化・洗浄装置(トッキ(株)) |
281 |
| (2) 有機ELガラス基板VUV/O3洗浄・改質装置((株)エム・ディ・エキシマ) |
287 |
| (3) 有機EL洗浄装置のシステム化((株)ダン科学) |
289 |
| 引用文献 |
290 |
第4章 精密機器 |
293 |
| 4.1 MEMS、マイクロマシン |
293 |
| (1) 癒着防止技術 |
293 |
| (2) 枚葉式無水HFベーパ洗浄システム(エム・エフエスアイ(株)) |
296 |
| 4.2 ディスク部品 |
296 |
| (1) 磁気ディスク部品の精密洗浄装置(スピードファムクリーンシステム(株)) |
297 |
(2) ディスクドライブ用スピンドルモータ部品の精密洗浄技術
(荒川化学工業(株)) |
302 |
| 4.3 精密機械部品 |
304 |
| (1) 直接トルネード噴霧を用いた超音波洗浄技術((17)ガリュー) |
305 |
| (2) ターボ脱気式高性能超音波洗浄装置((株)カイジョー) |
306 |
| (3) 精密機器製造における塩素系有機溶剤代替洗浄システム(キヤノン(株)) |
309 |
| 4.4 光学ガラスレンズ |
312 |
| (1) 光学ガラスレンズ洗浄技術((17)アイケミック) |
313 |
| (2) 塩素系有機溶剤代替ガラスレンズ洗浄システム(キヤノン(株)) |
315 |
(3) レンズリサイクルのためのガラス表面に形成された硬質皮膜の
強力超音波による除去手法(山形大学) |
316 |
| 4.5 光通信関連部品 |
318 |
| (1) 光通信関連部品の洗浄技術(荒川化学工業(株)) |
318 |
| (2) 光コネクター洗浄器(韓国The
Fibers Inc.) |
323 |
| 引用文献 |
323 |
