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頁 |
| 第1章 液相法(ウエット法)薄膜作製技術 |
1 |
| 1.1 薄膜作製法 |
1 |
| 1.1.1 薄膜とは |
1 |
| 1.1.2 薄膜作製法の分類と機能 |
1 |
| 1.2 ゾル-ゲル法薄膜の作製と応用 |
5 |
| 1.2.1 ゾル-ゲル法による薄膜の作製 |
6 |
| (1) 金属アルコキシドからのゾルおよびゲルの生成 |
6 |
| (2) ゾル-ゲル法による薄膜の作製 |
6 |
| (3) 金属アルコキシドの反応性の制御：化学修飾 |
7 |
| 1.2.2 ゾル-ゲル法による微細パターニングと応用 |
7 |
| (1) スタンパーを用いるプロセス |
8 |
| A.通常のゲル膜へのパターニング |
8 |
| B.有機高分子分散およびペンダント型ゲル膜へのパターニング |
8 |
| C.光重合性ORMOCERへのパターニング |
9 |
| (2) 光を用いるプロセス |
9 |
| A.β-ジケトンで化学修飾された光感応性ゲル膜の利用 |
9 |
| B.重合性ORMOCERの利用 |
10 |
| (3) 光感応性ゲル膜による電子・光学素子の作成 |
10 |
| A.強誘電体膜のパターニング |
10 |
| B.光学素子の作成 |
11 |
| 1.3 有機-無機ハイブリッド薄膜の作製 |
12 |
| 1.3.1 ゾル-ゲル法無機-有機ハイブリッド薄膜 |
12 |
| (1) ゾル-ゲル法無機-有機ハイブリッド薄膜の特徴 |
13 |
| (2) 無機-有機ハイブリッド膜の種類 |
13 |
| A.分散型ハイブリッド膜 |
13 |
| B.ペンダント型ハイブリッド膜 |
14 |
| C.共重合型ハイブリッド膜 |
14 |
| 1.3.2 シルセスキオキサン有機-無機ハイブリッドによる微細パターニング |
15 |
| (1) シルセスキオキサン有機-無機ハイブリッドの特徴 |
15 |
| (2) 感光性シルセスキオキサン有機-無機ハイブリッドの開発 |
16 |
| A.エン−チオール反応を利用した有機-無機ハイブリッド材料(荒川化学工業) |
16 |
B.感光性ゾル−ゲル反応を用いた
ダブルデッカー型シルセスキオキサンハイブリッド |
18 |
| 1.4 ウエットコーティング法 |
21 |
| 1.4.1 スピンコーティング |
21 |
| 1.4.2 スプレー法 |
23 |
| 1.4.3 ロールコート、ダイコート法 |
23 |
| (1) ロールコート、ダイコート塗工方式の概略 |
24 |
| (2) 精密塗布技術の分類 |
24 |
| (3) 塗工方式の変遷(ロールコートからダイコートへ) |
26 |
| (4) 精密塗工技術の進化 |
27 |
| A.ダイ塗工の利用範囲 |
28 |
| B.設備技術 |
28 |
| C.塗布技術 |
28 |
| D.今後の課題 |
28 |
| (5) ナノコーティング装置 |
29 |
| A.高精度ナノ薄膜コーター(ヒラノテクシード) |
29 |
B.薄膜、均一塗工厚、クリーンを実現するギアレスダイレクトドライブ(DD)
システム(住重制御システム：DDシステムと「System
MX」) |
33 |
| 1.5 インクジェット印刷法 |
37 |
| 1.5.1 インクジェットプリンター技術 |
37 |
| 1.5.2 工業用途としてのインクジェット技術 |
37 |
| (1) インクジェット塗布法の利点 |
37 |
| (2) インクジェット液滴の特徴 |
38 |
| 1.5.3 マイクロ液体プロセス(セイコーエプソン) |
42 |
| (1) インクジェット直接描画 |
42 |
| (2) より微細なインクジェットパターニング技術 |
45 |
| A.基板の表面エネルギーの利用 |
45 |
| B.微小流れによる微細化 |
45 |
| 1.6 新規スプレー方式薄膜作製技術と応用 |
46 |
1.6.1 高精度スプレー方式による成膜とその応用
「NVD装置：Nano
Vapor Deposition」(藤森技術研究所) |
46 |
1.6.2 非揮発性機能性分子の薄膜を基板に付ける新技術「スプレー・ジェット法」
(情報通信研究機構) |
52 |
| 1.7 自己組織化単分子膜(SAM)によるナノオーダの表面修飾と応用 |
56 |
| 1.7.1 撥水/親水パターニング膜の利用拡大 |
57 |
1.7.2 インクジェット法によるフルオロアルキルシラン単分子膜
パターン基板への位置選択的高分子薄膜の形成(九州大学) |
58 |
| 引用文献 |
61 |
第2章 コーティングによる表面濡れ性制御 |
62 |
| 2.1 撥水コーティングの技術と応用 |
62 |
| 2.1.1 撥水性表面の原理と応用 |
62 |
| (1) 撥水性とは |
62 |
| A.材料の表面化学構造と表面自由エネルギー |
63 |
| B.表面の形態制御と超撥水 |
64 |
| C.滑水性 |
66 |
| (2) 超撥水膜の技術と高機能化 |
67 |
| 2.1.2 フッ素系低表面エネルギーコーティングの開発 |
68 |
| (1) フッ素化合物の撥水撥油特性 |
68 |
| (2) 撥水防汚性SAM |
70 |
| A.繊維製品撥水処理(香川大学) |
71 |
| B.MEMS用撥水性シリル化コーティング技術(豊田中央研究所) |
72 |
| C.シランカップリング剤によるナノインプリントモールドの表面処理 |
77 |
| (3) フッ素系高分子を用いた撥水撥油コーティングの開発 |
78 |
A.パーフルオロアルキル鎖を有する高分子を用いた
極低エネルギー高分子表面の創生(神戸大) |
78 |
| B.撥水・離型性有機薄膜処理技術「NANOS」(ティーアンドケー) |
83 |
| C.蛍光特性を持つフッ素系撥水・撥油コーティング剤(旭硝子) |
86 |
| 2.1.3 機能性超撥水膜の開発 |
87 |
| (1) フラクタル構造の耐久性超撥水膜(北海道大学) |
87 |
| (2) ナノ粒子を用いた超撥水スプレー(京都大学) |
90 |
(3) 組織化シリカナノ粒子による透明・超撥水表面の構築
(九州大、日本油脂) |
93 |
(4) シリコーン・アクリルブロック共重合体を用いた超撥水塗膜
(日本ペイント) |
96 |
(5) ナノスケール逆オパール膜を用いた構造発色・超撥水膜
(財団法人 神奈川科学技術アカデミー) |
101 |
| (6) 交互積層法によるハスの葉構造の透明超撥水膜(SNT) |
102 |
| 2.1.4 異なる粗さを組み合わせた表面での超撥水性(東工大) |
103 |
| 2.1.5 撥水膜に求められる今後の研究−「動的」な濡れ性 |
106 |
| (1) シランカップリング剤による超撥水性平滑コーティング |
107 |
| (2) 異なるシランを混合した複合コーティングの作製 |
108 |
| 2.2 親水防汚コーティング |
109 |
| 2.2.1 耐汚染性に優れる基材表面 |
109 |
| (1) 汚れの付着と親水撥油表面による汚れ物質の除去 |
110 |
(2) フルオロアルキルアクリレートと親水性モノマー共重合体による
固体表面の環境応答性と防汚加工 |
111 |
| (3) 帯電半減期と各種基材 |
113 |
| 2.2.2 親水性防汚コーティングの開発例 |
113 |
(1) フルオロアルキル基含有オリゴマー・シリカゲルポリマーハイブリッド
によるガラスの表面の防汚性向上 |
113 |
(2) ナノコンポジットエマルションを用いた地球温暖化防止効果をもつ
壁用塗料(水谷ペイント・京都工芸繊維大) |
115 |
| (3) 親水性と帯電防止による防汚コーティング材(大日本色材工業) |
118 |
| 2.3 酸化チタン光触媒コーティングを用いた機能濡れ表面の創製 |
121 |
| 2.3.1 酸化チタン光触媒 |
121 |
| 2.3.2 酸化チタンの光誘起超親水性 |
122 |
| (1) 光誘起親水性の発現機構 |
122 |
| (2) 光誘起超親水性に影響を与える因子 |
123 |
| 2.3.3 光触媒の親水性改良の試み |
123 |
| (1) 暗所維持性の改善 |
123 |
| (2) 高感度化 |
124 |
| A.繰り返し光照射 |
124 |
| B.フォトエッチングによる高感度ナノポーラス表面化 |
124 |
| C.他の半導体との組み合わせ |
125 |
| D.可視光応答型酸化チタン |
126 |
| 2.3.4 光触媒による防汚コーティング |
126 |
| 2.3.5 光触媒を添加した超撥水コーティング |
127 |
| 2.3.6 Tiドープアパタイト系光触媒の新しい特性(東京大学、富士通研究所) |
128 |
| (1) Tiドープアパタイトの特性 |
129 |
| (2) Tiドープアパタイトのセルフクリーニング性能 |
130 |
| 引用文献 |
131 |
第3章 導電性コーティングの開発動向 |
134 |
| 3.1 導電性成分と機能 |
134 |
| 3.1.1 帯電防止剤 |
134 |
| (1) 電子伝導型とイオン伝導型帯電防止材 |
136 |
| 3.1.2 導電性フィラー |
136 |
| 3.1.3 導電性ポリマー |
136 |
| 3.2 金属酸化物系ウエット法透明導電コーティング |
136 |
| 3.2.1 コーティング液 |
136 |
| 3.2.2 透明導電性コーティング液の応用 |
139 |
| (1) 透明帯電防止および帯電防止ハードコート膜 |
139 |
| (2) 反射防止・帯電防止膜 |
140 |
| (3) ITO透明電極 |
141 |
| (4) 電磁波遮蔽膜 |
141 |
| (5) 熱線紫外線遮蔽フィルム |
141 |
| 3.2.3 ATO系帯電防止コーティングの開発 |
142 |
(1) 無色透明帯電防止技術(nmの酸化スズ超微粒子を分散させた
酸化スズゾルEPS)(山中産業) |
142 |
| (2) 透明帯電防止コーティング「ペルトロンCシリーズ」(日本ペルノックス) |
143 |
(3) 環境負荷を低減した水系透明帯電防止コ−ト剤
「エリーテル/アローベースATシリーズ」(ユニチカ) |
145 |
| (4) 水系透明導電塗料「TWU-1」(三菱マテリアル) |
147 |
| (5) クリーンルーム用帯電防止塗料(神東塗料) |
147 |
| 3.2.4 ディスプレイ電極パターン形成用ITO透明電極コーティング |
150 |
| (1) スクリーン印刷対応ITOペースト(住友大阪セメント) |
150 |
(2) スクリーン印刷対応ITOナノペースト
(奥野製薬工業、大阪市立工業研究所) |
153 |
| 3.3 界面活性剤系帯電防止コーティング |
153 |
| 3.3.1 低分子型帯電防止剤 |
153 |
| 3.3.2 高分子型帯電防止剤 |
154 |
| 3.3.3 その他 |
158 |
| (1) ミスト法による帯電防止膜形成技術(メイキ樹脂工業) |
158 |
(2) 「傾斜ナノコーティング」で高い帯電防止機能を持たせたPETフィルム
(東レ) |
161 |
| 3.4 導電性ポリマーコーティングの開発 |
162 |
| 3.4.1 導電性ポリマコーティングの特徴 |
162 |
| 3.4.2 導電性ポリマーコーティングの製品例 |
162 |
| (1) タッチパネル電極用透明導電フィルム(富士通研究所) |
162 |
(2) ウエット法導電性ポリマーを用いた透明導電フィルム「CurrentoFine」
(帝人デュポンフィルム) |
166 |
| (3) ポリピロールナノ分散液の開発と応用(アキレス) |
167 |
| (4) 高透明の帯電防止コーティング「ELコート」(出光テクノファイン) |
170 |
| (5) 交互積層法による透明導電性フィルム(SNT) |
170 |
| 3.5 電磁波シールド・電磁波吸収コーティング |
170 |
| 3.5.1 シールド効果 |
171 |
| 3.5.2 電磁波シールド材料 |
171 |
| (1) 無電解めっき |
172 |
| (2) 導電性塗料 |
173 |
| 3.5.3 電磁波吸収材料 |
173 |
| (1) 電磁波吸収体の評価 |
174 |
| (2) 導電損失を利用したλ/4型電磁波吸収体 |
174 |
| (3) 誘電損失を利用した電磁波吸収体 |
175 |
| (4) 磁性損失を利用した電磁波吸収体 |
175 |
| 3.5.4 電磁波シールド・電磁波吸収コーティングの開発 |
176 |
| (1) 磁性材料を使用した電磁波対策用塗料(メイト) |
176 |
(2) 複数帯域の電波を選択遮蔽する無線LAN用電磁波シールドフィルム
(三菱電線工業) |
177 |
| (3) デジタル放送塔用電波吸収塗料「エバトロン2000」(中国塗料) |
178 |
| (4) 紫外線カット・電磁波吸収性の透明コーティング(大阪市立工業研究所) |
180 |
(5) フェライトメッキ膜によるGHz対応の電磁波吸収コーティング
(NECトーキン) |
181 |
| 引用文献 |
187 |
第4章 紫外線遮蔽、熱線遮蔽コーティングの開発動向 |
189 |
| 4.1 超微粒子の光学的機能と応用 |
189 |
| 4.2 紫外線遮蔽剤およびコーティング材の開発動向 |
190 |
| 4.2.1 紫外線吸収剤の種類と特徴 |
191 |
| (1) 有機系紫外線防御剤 |
191 |
| (2) 無機系紫外線吸収剤およびコーティング材 |
194 |
| A.酸化チタン超微粒子の特徴 |
194 |
| B.酸化亜鉛超微粒子の特徴 |
198 |
| C.紫外線遮蔽塗料 |
199 |
4.2.2 無機系紫外線遮蔽材料の高性能化(紫外線防御性・透明性の向上)と
紫外線遮蔽コーティングへの応用 |
200 |
| (1) 無機系材料コート |
201 |
| A.高密度シリカ層をコートした超微粒子酸化亜鉛［NANOFINE］(堺化学工業) |
201 |
| B.薄膜シリカ被覆酸化亜鉛微粒子および紫外線遮蔽コート剤(昭和電工) |
202 |
C.シリカまたはBN被覆酸化セリウム、酸化セリウムにCa2＋を
固溶させた粒子 |
205 |
| (2) 粒子の形状制御 |
208 |
| A.薄片状酸化チタン(物質・材料研究機構、石原産業) |
208 |
| B.薄片状酸化亜鉛 |
210 |
C.単分散・球状の酸化セリウム/ポリマーハイブリッドナノ粒子分散液
(産総研) |
210 |
| (3) 噴霧乾燥法によるシリカ複合微粒子の分散・固定化法(広島大学) |
212 |
| (4) プラズマイオンドーピング技術を応用した紫外線遮蔽技術(アイエスアイ) |
217 |
| A.タングステンドープ酸化亜鉛超微粒子 |
217 |
| B.イオンドープ酸化チタン |
218 |
| C.高度複合型低温プラズマプロセス |
219 |
| 4.3 熱線遮蔽コーティング |
220 |
4.3.1 アンチモンスズドープ酸化スズ(ATO)またはスズドープ酸化インジウム
(ITO)微粒子による熱線遮蔽技術の概要 |
220 |
| 4.3.2 ATO系熱線遮蔽コーティングの開発 |
221 |
| (1) 窓ガラス用熱線遮蔽インク(住友金属鉱山) |
221 |
| (2) 熱線＋紫外線遮蔽フィルム「レイバリヤ」(住友大阪セメント) |
222 |
| (3) 熱線・紫外線遮蔽コーティング剤の新しい塗布技術(フミン) |
224 |
| 4.3.3 近赤外遮蔽性微粒子の開発 |
224 |
| (1) 近赤外遮蔽性の酸化チタン粒子(テイカ) |
224 |
| (2) ランタン化合物粉末(住友金属鉱山) |
228 |
| (3) 赤外線反射特性の向上したITOナノ粒子の低コスト製造技術(産総研) |
228 |
| 引用文献 |
230 |
第5章 プラスチック基材反射防止コーティングの開発動向 |
231 |
| 5.1 反射防止の方法 |
231 |
| 5.1.1 AG処理とAR処理 |
231 |
| 5.1.2 反射防止膜の材料 |
232 |
| 5.1.3 成膜法 |
233 |
| (1) 乾式法 |
234 |
| (2) 湿式法 |
235 |
| 5.2 FPDにおけるウエット法反射防止膜の作製 |
235 |
| 5.2.1 LCD用反射防止フィルム |
235 |
| (1) 反射防止フィルムへの要求特性 |
236 |
| A.光学性能 |
236 |
| B.表面硬度 |
237 |
| C.帯電防止機能 |
237 |
| D.防汚機能 |
237 |
| 5.2.2 タッチパネルにおける反射防止コーティング |
238 |
| (1) タッチパネルの構造 |
238 |
| (2) タッチパネルの反射防止 |
238 |
| A.反射防止膜による反射防止 |
238 |
| B.偏光板付きタッチパネル |
239 |
| 5.2.3 PDPにおける反射防止コーティング |
240 |
| (1) PDP光学フィルターへの要求 |
240 |
| (2) PDP用光学フィルターの構成 |
240 |
| 5.3 FPD用ウェット法反射防止膜の開発 |
241 |
| 5.3.1 低屈折率材料を用いた高性能低反射防止膜の開発 |
241 |
| (1) 特殊低反射フィルム「ReaLook」(日本油脂) |
241 |
| (2) ゾル・ゲル法シリコーン系多孔質低屈折率薄膜(松下電工) |
242 |
(3) 多孔質シリカナノ粒子を利用した反射防止膜
(扶桑化学工業−大阪市立工業研究所) |
245 |
| (4) 交互吸着法を用いた多孔質低反射防止膜(慶應義塾大学) |
245 |
| 5.3.2 導電性付与反射防止フィルム(住友大阪セメント) |
249 |
| 5.3.3 防汚機能付与ゾル・ゲル法シリコーン系多孔質反射防止膜(松下電工) |
251 |
| 5.3.4 PDP用機能複合光学フィルターの開発 |
252 |
(1) 反射防止＋電磁シールド＋近赤外線カット＋色調・輝度補正
「アークトップ」(旭硝子) |
252 |
| A.反射防止(AR)フィルム「アークトップ」 |
252 |
| B.アークトップを用いたPDP光学フィルター |
253 |
(2) グラビア印刷法による低コストPDP用電磁波遮蔽フィルム
(住友大阪セメント) |
254 |
| (3) PDP用単一基材光学フィルタ(住友大阪セメント) |
256 |
| 5.4 新規反射防止材料の開発 |
257 |
| 5.4.1 高屈折率材料 |
257 |
| (1) 酸化チタンの課題 |
257 |
| (2) ジルコニアナノ粒子および透明分散液(住友大阪セメント) |
257 |
(3) 分子プレカーサ法によるジルコニア薄膜作成用コーティング剤
(ナガセケムテックス) |
257 |
| 5.4.2 ゾル−ゲル技術による低屈折および高屈折率有機無機ハイブリッド(KRI) |
258 |
| 引用文献 |
260 |
第6章 プラスチック基材ハードコート |
262 |
| 6.1 ハードコート技術の原理・特徴と用途 |
262 |
| 6.1.1 ハードコート材料 |
262 |
| (1) 有機系 |
263 |
| (2) 無機微粒子分散系(有機・無機ハイブリッドタイプ) |
263 |
| (3) 無機系 |
264 |
| 6.1.2 用途と塗工方法 |
264 |
| 6.1.3 ハードコート剤への機能性付与 |
265 |
| 6.2 高硬度・高機能性UV硬化有機・無機ハイブリッドハードコートの開発 |
265 |
6.2.1 シリカ系光反応性微粒子を用いた高硬度有機/無機ハイブリッド系
ハードコート |
265 |
| (1) 架橋ポリシロキサン微粒子分散UV硬化ハイブリッドハードコート(JSR) |
266 |
| 6.2.2 無機-有機ハイブリッドUV硬化型ハードコーティング(アトミクス) |
270 |
| (1) 共有結合型無機−有機ハイブリッド樹脂「アトムコンポブリッド」シリーズ |
270 |
| (2) 「アトムコンポブリッドHUV」 |
271 |
| 6.2.3 UV硬化型シリコーンレジンコーティング剤(東レ・ダウコーニング) |
273 |
6.2.4 水性UV硬化型ハードコート塗料用樹脂「ユニディック」
(大日本インキ化学工業) |
274 |
| (1) 水性UV硬化型樹脂 |
275 |
| (2) 塗料用水性UV硬化型樹脂「ユニディックV-7000」シリーズ |
275 |
| 6.3 耐候性UVハードコートの開発 |
277 |
| 6.4 帯電防止性ハードコートの開発 |
278 |
| 6.4.1 帯電防止ハードコートと透明塗膜 |
278 |
| 6.4.2 各社のUV硬化型帯電防止ハードコート |
279 |
(1) 五酸化アンチモン微粒子を用いた帯電防止ハードコート塗料
(触媒化成工業) |
279 |
| (2) ATO系帯電防止・ハードコート塗料(住友大阪セメント) |
282 |
(3) ポリエーテルタイプ帯電防止ハードコート剤「サンラッドRC-700」
(三洋化成工業) |
282 |
| 6.5 防汚性ハードコートの開発 |
284 |
| 6.5.1 反射防止フィルム用ハードコートへの防汚性付与技術 |
284 |
| 6.5.2 光ディスク用ハードコートの耐指紋性向上技術(TDK) |
284 |
| (1) ナノコンポジットハードコートによる耐摩耗性向上 |
285 |
| (2) ハードコートの耐指紋性向上技術 |
287 |
| 6.5.3 防汚ハードコート製品例 |
290 |
| (1) フッ素系シランカップリング剤 |
290 |
| (2) フッ素系新規UV硬化型指紋付着防止剤「オプツールDAC」(ダイキン) |
291 |
| (3) UV硬化型防汚ハードコート(大日本インキ化学工業) |
293 |
| (4) BD(Blue-ray Disc)カバーフィルム用耐指紋ハードコート(リンテック) |
295 |
| 6.6 プラスチック眼鏡レンズハードコートの開発 |
295 |
| 6.6.1 高屈折率シリコーン系ハードコートの特徴 |
296 |
| 6.6.2 ハイインパクトコーティング |
296 |
| 6.6.3 プラスチック眼鏡レンズ用ハードコート/湿式反射防止膜の課題 |
297 |
| 6.6.4 プラスチックレンズ用ハードコートの開発例 |
298 |
| (1) PVB−シリカ複合耐衝撃ハードコート(愛知県産業技術研究所) |
298 |
(2) 超硬ナノテクレンズコーティング「ニコン スーパーハードE-CC99」
(ニコン・エシロール) |
300 |
| 6.7 タッチパネル用ハードコートと指紋付着防止 |
302 |
| 6.7.1 タッチパネルにおけるハードコート |
302 |
| (1) 防眩処理ハードコート |
302 |
| (2) 高精細カラー対応AGハードコート |
303 |
| 6.7.2 タッチパネル用AGハードコートへの耐指紋性付与技術 |
303 |
| (1) 親水性ハードコーティング |
304 |
| (2) 耐指紋性付与AGフィルム「クリアタッチ」(日本油脂) |
305 |
| 6.8 水系ハフニアゾルからの高硬度・撥水性ハフニア薄膜(日本大学) |
307 |
| 6.8.1 ハフニア薄膜 |
308 |
| 6.8.2 ハフニア有機複合膜 |
309 |
| 引用文献 |
310 |
第7章 ウエット方式微細パターニング技術と電子・光学素子への応用 |
311 |
| 7.1 有機TFTと自己組織化単分子膜の利用 |
311 |
| 7.1.1 有機TFTの概要 |
311 |
| (1) 有機TFTの構造と動作機構 |
311 |
| A.トップコンタクト構造 |
312 |
| B.ボトムコンタクト構造 |
312 |
| C.トップゲート構造 |
313 |
| D.動作機構 |
313 |
| (2) 有機TFTの性能 |
314 |
| (3) 有機TFTの動作安定性 |
316 |
| (4) 印刷による有機TFTの作製 |
317 |
| A.有機半導体 |
317 |
| B.ゲート絶縁膜 |
318 |
| C.ゲート電極およびソース/ドレイン電極 |
318 |
| 7.1.2 SAMを用いた表面処理による有機TFTの高性能化 |
318 |
(1) ゲート絶縁膜表面処理による有機TFTの駆動安定性の向上
(NHK放送技術研究所) |
318 |
| A.OTSによる絶縁膜表面処理 |
318 |
| B.アルキルトリクロロシラン(β-PTS)による絶縁膜表面処理 |
319 |
(2) 感光性SAM濡れ性制御による有機TFT電極の作製
(日立製作所、神奈川大学) |
323 |
| 7.2 インクジェット法微細配線技術の電子・光学素子への応用 |
325 |
| 7.2.1 インクジェット法と濡れ性制御による有機TFTの作製 |
325 |
| (1) 撥水/親水性ポリイミド絶縁膜を用いた有機トランジスタ作製(リコー) |
325 |
| (2) インクジェット法によるポリマーTFTの作製(セイコーエプソン) |
331 |
| A.有機トランジスタの作成と性能 |
331 |
7.2.2 インクジェット法による有機FETマトリックスと大面積圧力センサへの
応用(東京大学) |
335 |
7.2.3 インクジェット法による面発光レーザおよびマイクロレンズの形成
(セイコーエプソン) |
337 |
| (1) 面発光レーザ(vertical-cavity
surface-emitting laser：VCSEL) |
338 |
| (2) レンズ一体形成VCSEL(IJML-VCSEL) |
338 |
| (3) レンズ一体形成PD(IJML-PD) |
341 |
7.2.4 燐光材料を用いたインクジェット法によるフレキシブル有機EL
ディスプレイの試作(NHK放送技研) |
341 |
| (1) 有機EL材料とインクの調整 |
342 |
| (2) インクジェット法による画素形成 |
342 |
| (3) ディスプレイの構造と作製 |
343 |
| (4) 有機層の平坦性 |
343 |
| 7.2.5 インクジェット法による金属配線の形成 |
345 |
| (1) 金属ナノ粒子インクの作成方法 |
345 |
| (2) PDPディスプレイのバス配線への応用 |
345 |
| (3) ICボンディングへの応用 |
346 |
